कम सोडियम एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड

कम सोडियम एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड (ATH) उच्च-विद्युतीय-ग्रेडको एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड सामग्री हो जसमा कडा रूपमा नियन्त्रण गरिएको सोडियम अक्साइड (Na₂O) सामग्री उच्च-प्रदर्शन अनुप्रयोगहरूमा आयनिक प्रदूषणलाई कम गर्न सकिन्छ।

निम्न मापदण्डहरूले शुद्धता, विद्युतीय विशेषताहरू, कण गुणहरू, र कम सोडियम एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइडको थर्मल व्यवहार परिभाषित गर्दछ।

सोडियम अक्साइड सामग्री (Na₂O)
Na₂O सामग्री इलेक्ट्रिकल-ग्रेड एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइडको लागि एक महत्वपूर्ण मापदण्ड हो, किनकि कम सोडियम स्तरले संवेदनशील अनुप्रयोगहरूमा आयनिक अशुद्धताहरू नियन्त्रण गर्न मद्दत गर्दछ।
एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड शुद्धता
Al(OH)₃ सामग्रीले उच्च प्रदर्शन औद्योगिक अनुप्रयोगहरूको लागि सामग्री शुद्धता र स्थिरतालाई संकेत गर्दछ।
विद्युतीय चालकता
विद्युतीय चालकताले आयनिक अशुद्धता नियन्त्रण र विद्युतीय इन्सुलेशन अनुप्रयोगहरूको लागि उपयुक्तता मूल्याङ्कन गर्न मद्दत गर्दछ।
कण आकार वितरण
1.7-2.5 μm को D50 कण आकारले पाउडर सुन्दरतालाई संकेत गर्दछ र प्रशोधनको क्रममा फैलावट विशेषताहरूको मूल्याङ्कन गर्न मद्दत गर्दछ।
थर्मल अपघटन व्यवहार
निर्जलीकरण तापमानले ज्वाला retardant अनुप्रयोगहरूको समयमा एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइडको थर्मल अपघटन विशेषताहरू प्रतिबिम्बित गर्दछ।

अल्ट्रा-कम सोडियम नियन्त्रण
कडा Na₂O नियन्त्रणले आयन माइग्रेसन जोखिमहरू कम गर्न मद्दत गर्दछ र संवेदनशील अनुप्रयोगहरूमा स्थिर विद्युतीय प्रदर्शनलाई समर्थन गर्दछ।
विश्वसनीय विद्युत इन्सुलेशन प्रदर्शन
कम आयनिक अशुद्धता स्तरहरूले HFFR केबल यौगिकहरू र विद्युतीय बहुलक प्रणालीहरूमा स्थिर इन्सुलेशन गुणहरू कायम राख्न मद्दत गर्दछ।
सुधारिएको ट्र्याकिङ प्रतिरोध
प्रवाहकीय इलेक्ट्रोलाइट गठनको कम जोखिमले विद्युतीय अनुप्रयोगहरूमा सुधारिएको ट्र्याकिङ प्रतिरोधलाई समर्थन गर्दछ।
उच्च रासायनिक शुद्धता
Al(OH)₃ सामग्री 99.8% भन्दा बढी वा बराबर, Fe₂O₃ 0.01% भन्दा कम वा बराबर, र SiO₂ 0.01% भन्दा कम वा बराबर, सामग्रीले उच्च- शुद्धता औद्योगिक अनुप्रयोगहरूको आवश्यकताहरू पूरा गर्दछ।
नियन्त्रित थर्मल व्यवहार
नियन्त्रित निर्जलीकरण विशेषताहरूले ज्वाला retardant प्रणालीहरूमा अनुमानित थर्मल अपघटन व्यवहारलाई समर्थन गर्दछ।

HFFR र LSZH केबल यौगिकहरू
केबल इन्सुलेशन र कम धुवाँ प्रदर्शन, विद्युतीय स्थिरता, र लामो-विश्वसनीयता चाहिने सामग्रीहरूमा हलोजन-फ्री फ्लेम रिटार्डेन्ट फिलरको रूपमा प्रयोग गरिन्छ।
विद्युतीय इन्सुलेशन कम्पोनेन्टहरू
नियन्त्रित आयनिक अशुद्धता र स्थिर विद्युतीय कार्यसम्पादन चाहिने ज्वाला-प्रतिरोधी बहुलक कम्पोनेन्टहरूमा प्रयोग गरिन्छ।
उन्नत प्राविधिक सिरेमिक
सिरेमिक सामग्रीहरूका लागि उच्च-शुद्धताको एल्युमिनियम स्रोतको रूपमा लागू हुन्छ जसलाई नियन्त्रित संरचना र स्थिर सिंटरिङ व्यवहार चाहिन्छ।
पारदर्शी एल्युमिना सिरेमिक
अप्टिकल र संरचनात्मक कार्यसम्पादन कायम राख्न उच्च शुद्धता र नियन्त्रित अशुद्धता स्तरहरू आवश्यक पर्ने अनुप्रयोगहरूको लागि उपयुक्त।
सिंथेटिक क्वार्ट्ज क्रिस्टल
क्वार्ट्ज निर्माण प्रक्रियाका लागि उच्च-शुद्धताको कच्चा पदार्थको रूपमा प्रयोग गरिन्छ।
उत्प्रेरक वाहक
नियन्त्रण रासायनिक संरचना र थर्मल स्थिरता आवश्यक उत्प्रेरक समर्थन सामग्री मा लागू।
उच्च-अन्त ग्लास र फाइबरग्लास
उच्च-पवित्रता गिलास उत्पादनको लागि उपयुक्त छ जसमा लगातार एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड सामग्रीहरू आवश्यक पर्दछ।

20+ सामग्री निर्माण अनुभवको वर्ष
2003 मा स्थापित, ZC-TECH उच्च-शुद्धता एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड उत्पादनहरू सहित उन्नत अकार्बनिक कार्यात्मक सामग्रीहरूमा विशेषज्ञता दिन्छ।
कडा सामग्री गुणस्तर नियन्त्रण
सोडियम सामग्री, रासायनिक शुद्धता, कण विशेषताहरू, र विद्युतीय गुणहरू सहित महत्वपूर्ण मापदण्डहरू सावधानीपूर्वक नियन्त्रण गरिन्छ।
व्यावसायिक परीक्षण क्षमता
ZC-TECH ले कण आकार विश्लेषण, तत्व संरचना विश्लेषण, थर्मल प्रदर्शन मूल्याङ्कन, र पाउडर गुण परीक्षणको लागि सुसज्जित व्यावसायिक सामग्री परीक्षण सुविधाहरू सञ्चालन गर्दछ।
स्थिर औद्योगिक उत्पादन क्षमता
100,000-टन वार्षिक उत्पादन परियोजना र 70,000+ टन वार्षिक बिक्री मात्राको साथ ठूलो-स्केल एल्युमिनियम हाइड्रोक्साइड उत्पादन क्षमता।
आवेदन-उन्मुख सामग्री समर्थन
ZC{0}}TECH ले पोलिमर प्रणाली, सिरेमिक अनुप्रयोगहरू, प्रशोधन अवस्थाहरू, र प्रदर्शन आवश्यकताहरूमा आधारित सामग्री सिफारिसहरू प्रदान गर्दछ।
विश्वव्यापी आपूर्ति अनुभव
उत्पादनहरु भारत, दक्षिण कोरिया, Türkiye, रूस र स्पेन लगायत अन्तर्राष्ट्रिय बजारमा आपूर्ति गरिएको छ।